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ウェビナー20260115

製造業のAIセーフティ最前線
AIを安全に使いこなすための
品質評価とリスク対策

生成AIの普及により、製造業では精度・安全性・透明性を担保しながらAIを活用することが重要になっています。
本ウェビナーでは、AI評価基盤を提供するElithと、オンプレLLM活用やRAG改善に強みを持つエムニが共催し、生成AIを“安全に使いこなす”ための最新アプローチを解説します。
Elithからは、ハルシネーションやバイアスなどの主要リスク、EU AI法・AI事業者ガイドラインに基づく評価とログ管理、GENFLUXを用いた実務的な安全性検証を紹介。エムニからは、オンプレLLM構築やRAG改善の具体事例、クラウドとのトレードオフ、実装現場でのセキュリティ要件を解説します。
両社代表によるクロストークでは、AIモデル多様化時代のAIセーフティやOSS LLM登場後の“新たな評価基準”を議論します。


プログラム対象者

・製造業の経営企画、DX、AI導入を推進している担当者
・製造業でAI活用と安全性を両立したい方
・AI導入のリスク評価や基準作りを担当する方

開催日時　：2026年 1月 15日（木）12：00～13：00
申込締切　：2026年 1月 15日（木）11：00まで
参加費　　：無料
実施方法　：オンライン（Zoomウェビナー）


【個人情報の取り扱いに関しまして】
本応募フォームで取得した回答内容及び、個人情報は株式会社Elith
及び株式会社エムニがお取り扱いいたします。
※株式会社Elith の個人情報保護方針について詳細はこちら
https://www.elith.ai/privacypolicy

※ 株式会社エムニのプライバシーポリシーについて詳細はこちら
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Online Seminar

Timetable

1月 15日（木）12:00～13:00

  1. Time 12:00 - 12:05

    冒頭ご案内

    門前 一馬
    株式会社エムニ / マーケティングエンジニア

    登壇者のご紹介
    ウェビナーの進行説明
    ・質疑応答について
    ・QAについて
    ・録音・録画などの撮影について
    ・カメラ及びマイクについて

  2. Time 12:05 - 12:20

    生成AIにおける品質評価の最新動向

    井上 顧基
    　株式会社Elith
    　代表取締役 CEO/CTO

    • 生成AIの活用が進む一方で、ハルシネーションやバイアス、情報漏洩などの品質リスクは年々重要性を増しています。本講演ではElithの井上氏が、GENFLUXを用いたRAG精度・有害表現・脆弱性の自動評価、ポリシーチェック、EU AI法対応を含む最新の品質評価フレームワークを実務視点で解説します。

  3. Time 12:20 - 12:35

    製造業特有のAIセキュリティ要件

    下野 祐太
    　株式会社エムニ / 代表取締役CEO

    • 製造業で生成AIを導入する際には、機密情報の保護や社外接続制限、RAG誤引用など、他業界とは異なる固有のセキュリティ要件が存在します。本講演ではエムニの下野氏が、オンプレLLMの設計思想、データ越境防止、ログ管理、RAG精度改善の実例を交えながら、製造業における“安全に使えるAI”の実装ポイントを解説します。

  4. Time 12:35- 13:00

    クロストーク

    • 生成AIを安全に動かすために企業は何をすべきか
    • AIセーフティを現場実装するための評価と仕組みづくり
    • OSS LLM時代の“新しいAI安全戦略
ウェビナーに参加する
登壇者01-Jul-21-2025-02-19-39-7973-PM
下野 祐太
株式会社エムニ
代表取締役CEO

京都大学大学院エネルギー科学研究科応用科学専攻卒。(株)松尾研究所にて製造業向けのAI社会実装に3年間従事。その他、AI企業でのプロジェクト経験多数。Forbes Japan 30 Under 30 2025受賞。

登壇者-2
井上 顧基
株式会社Elith  
代表取締役 CEO/CTO

北陸先端科学技術大学院大学にて量子コンピュータの材料探索の研究で修士号を取得。会社経営と同時に東北大学医学系研究科にて医学物理分野での医療AIの研究に取り組む博士後期課程。研究成果として、医学物理のトップカンファレンスであるAAPMで採択され研究発表。著書として「実務レベルでわかる/使いこなせるようになるGit入門コマンドライン演習80(秀和システム)」や「日経Linux(日経BP)」で大規模言語モデルについての記事を寄稿するなど精力的に活動されている。